粉末磁控濺射儀 VTC-16-SM-PW

· 可對(duì)粉體材料進(jìn)行表面包覆：采用磁控濺射，濺射時(shí)粉體材料在振動(dòng)樣品臺(tái)上翻滾，達(dá)到粉體表面均勻包覆；

· 設(shè)備小巧可在手套箱內(nèi)使用（需訂貨時(shí)說明另配KF40饋通），可處理對(duì)氧敏感性材料

· 可抽真空、通氣氛

· PLC集成的控制系統(tǒng)

· 標(biāo)配石英腔室、等離子磁控濺射靶頭，靶材濺射擋板

· 電源：AC 220V 50/60Hz

· 濺射電流：0-130mA

· 功率：＜1KW

· 輸出電壓：DC 700V

· 濺射時(shí)間：＜15min 

· 2英寸磁控濺射頭（帶有水冷夾層），另有1英寸靶頭可選；

· 采用快速接頭與真空腔體相連接。

· 適合濺射金、銀、鋁、銅等金屬，對(duì)基片的損傷和基片溫升比較少

· 標(biāo)配一塊銅靶，φ2″*3mm

· 靶材尺寸要求：φ2″×（0.1-5）mm厚度

· 腔室尺寸：外徑166mm×內(nèi)徑150mm×高290mm，采用高純石英制作；

· 密封法蘭: 采用金屬鋁制作，氟膠密封圈密封；

· 法蘭蓋上安裝了一個(gè)可手動(dòng)操作的擋板，用于靶材的預(yù)濺射。一個(gè)φ6.35的卡套接頭為進(jìn)氣口，用于連接進(jìn)氣管。一個(gè)手動(dòng)放氣閥用于往石英腔體內(nèi)部充入空氣。

·一個(gè)不銹鋼網(wǎng)罩罩住整個(gè)石英腔體，以屏蔽等離子體。

· 通過調(diào)節(jié)殼體右側(cè)的微量精密調(diào)節(jié)閥控制進(jìn)入石英腔體內(nèi)部工作氣體的流量，從而達(dá)到調(diào)節(jié)腔體內(nèi)部的真空度

· 通過調(diào)節(jié)殼體右側(cè)的電位器，實(shí)現(xiàn)對(duì)濺射電流大小的控制。

· 震動(dòng)樣品臺(tái)安裝在真空腔體底部

· 尺寸：直徑Φ2”(50.8mm)

· 震動(dòng)電機(jī)轉(zhuǎn)速：400-3000r/min可調(diào)

· 震動(dòng)電機(jī)每次工作時(shí)間  ≤15min（＜2000r/min），＜10min（2000-3000r/min）

· 樣品臺(tái)每次濺射粉末量：2g（氧化鋁粉）

· 粉末顆粒度范圍：在1μm和1mm之間

· 4″PLC集成觸摸屏控制面板，可顯示真空、電流、樣品濺射時(shí)間等，數(shù)據(jù)記錄功能可以記錄每次濺射的真空度、電流和濺射時(shí)間等工藝參數(shù)，方便客戶進(jìn)行查詢。

· 設(shè)備標(biāo)配一個(gè)皮拉尼真空計(jì)

· 測(cè)量范圍：1*10-4 mbar—1000 mbar（1*10-4—750 torr）

· 準(zhǔn)確度：1000mbar—20 mbar（讀數(shù)的30%）

· 重復(fù)性：20—0.002mbar （讀數(shù)的2%）

· 使用濕度：30℃環(huán)境下≤80%  40℃環(huán)境下≤50%無冷凝氣體；

· 使用溫度：5℃—60℃

· 可選配精度更高的數(shù)顯防腐真空計(jì)

· 型號(hào)：VRD-8

· 抽氣速率：2.2 L/S

· 電機(jī)功率：370 W

· 極限壓強(qiáng)：5×10^-1Pa（不帶負(fù)載）

· 實(shí)際壓強(qiáng)：≤5 Pa（冷態(tài)下機(jī)械泵抽20分鐘）

· 如果想要獲得更高的真空度（10^-5toor or better）可選購國產(chǎn)或進(jìn)口高真空機(jī)組

· 型號(hào)：KJ-5000

· 工作電流：1.4-2.1A

· 制冷量：2361Btu/h

· 尺寸：55×28×43cm（長×寬×高）

· 水箱容量：6L

· 水流速率：16L/min

·600mm（長）*370mm（寬）*830mm（高）

約30KG

一年質(zhì)保期，終身維護(hù)（不包密封圈等損耗件）